GP200系列基于壓力的金屬密封質(zhì)量流量控制器

特征

• 直接測量壓差
• 低供氣壓力操作
• *先進(jìn)的閥門架構(gòu)
• 超高速、高精度流量控制
• 零泄漏控制閥
• 借助 MultiFlo? 技術(shù)，可以在不斷開氣體管線的情況下將 MFC 的配置保持在數(shù)千種不同的氣體類型和流量范圍。
• 顯示屏顯示流量、溫度、壓力和網(wǎng)絡(luò)地址。
• 它支持 DeviceNet?、EtherCAT、® RS-485 L-Protocol 和模擬接口。

優(yōu)勢

• 由于GP200直接測量壓差，因此可以消除由于兩個不同壓力傳感器之間的匹配和補(bǔ)償而導(dǎo)致的測量不確定性，從而提高精度、可重復(fù)性和漂移性能。
• GP200 差壓傳感器專門針對低壓差測量進(jìn)行了優(yōu)化，現(xiàn)在可以使用 P-MFC 在較低的入口壓力下實現(xiàn)更**的晶圓廠操作。
• 下游閥門結(jié)構(gòu)確保了獨立于下游壓力的精度，允許流量達(dá)到 1200 Torr 的高壓。 快速關(guān)閉閥解決了上游 MFC 閥門設(shè)計中出現(xiàn)的非生產(chǎn)性配方等待時間或“尾部效應(yīng)”，這些閥門需要額外的時間來排出內(nèi)部容積的氣體。
• 超快速和**的流量控制可在超先進(jìn)的沉積和蝕刻工藝中實現(xiàn)更緊密、更**的過程控制。
• 閥門關(guān)閉性能提高 100 倍
• 使用 MultiFlo，MFC? 滿量程流量范圍可以減少到典型的 3：1 倍，而不會影響精度、量程比或規(guī)格泄漏，從而實現(xiàn)*佳的工藝和庫存靈活性
• 方便的用戶顯示和獨立的診斷/服務(wù)端口輔助設(shè)備安裝、監(jiān)控和故障排除

主要應(yīng)用

• 半導(dǎo)體制造
• 蝕刻
• 化學(xué)氣相沉積 （CVD
• 需要高純度全金屬流路的氣體流量控制應(yīng)用