TSI美國自動加載 20 nm 顆粒沉積系統(tǒng)2333

TSI美國自動加載 20 nm 顆粒沉積系統(tǒng)2333

這種手動加載的顆粒沉積系統(tǒng)沉積 PSL 和 SiO2小至 20 nm 的球體。通過生成大量高質(zhì)量的定制污染標準品，輕松、自信、高效地校準和鑒定您的缺陷檢測工具。手動加載允許沉積各種襯底，包括 150 mm、200 mm 和 300 mm 晶圓，支持您的所有晶圓計量應用并提高產(chǎn)品良率。

產(chǎn)品詳情

2300G3M 型顆粒沉積系統(tǒng)為在裸片、薄膜和圖案晶圓上沉積粒度標準品（包括 MSP 納米二氧化硅?尺寸標準品）提供了**的性能。2300G3M 使用先進的顆粒生成和差分遷移率分析儀 （DMA） 技術，以亞納米級的可重復性和 SI 可追溯性控制沉積顆粒的模態(tài)直徑，適用于半導體制造中要求苛刻的計量應用。該色譜柱可容納 16 個顆粒懸浮液，DMA 模式作范圍為 20 nm 至 2 μm，幾乎任何檢測工具的校準曲線都可以使用單一自動配方通過沉積生成。

應用

• 可追溯的檢測系統(tǒng)校準
• 符合傳統(tǒng)晶圓污染標準
• 來料裸晶圓檢驗/鑒定
• 確定專有薄膜的檢測靈敏度
• 橡皮布薄膜監(jiān)測
• 檢測工具開發(fā)和認證
• 工藝工具鑒定、工藝學習和監(jiān)控

特點和優(yōu)勢

• 完整（毯狀）、點、弧和環(huán)沉積圖案
• 沉積顆粒粒度的**配方控制
• 納米顆粒霧化，用于產(chǎn)生 20 nm 的清潔顆粒
• DMA 尺寸分類，用于窄尺寸分布選擇
• *大限度地減少顆粒簇和殘留顆粒
• 沉積圖案寬度的配方控制
• 配方、沉積和懸浮液分析報告
• 人體工程學設計
• 全球服務和支持