TSI美國(guó)進(jìn)口 1nm 掃描遷移率粒徑測(cè)定儀 （SMPS）  3938E57
TSI美國(guó)進(jìn)口 1nm 掃描遷移率粒徑測(cè)定儀 （SMPS）  3938E57
將測(cè)量結(jié)果**到檢測(cè)限度：掃描小至 1 nm 的顆粒。以高分辨率和速度測(cè)量小至 1 nm 的顆粒的大小和數(shù)量濃度。**代 1 nm 粒度測(cè)定儀器建立在 TSI 30+ 年的掃描遷移率粒測(cè)定儀 （SMPS?） 光譜儀專業(yè)知識(shí)之上。SMPS 系統(tǒng)包括 Nano Enhancer 3757 和差分遷移率分析儀 （DMA） 3086，使您能夠監(jiān)測(cè)*小、關(guān)鍵尺寸的反應(yīng)動(dòng)力學(xué)和工程和天然氣溶膠顆粒的新顆粒形成。
產(chǎn)品詳情
1nm 掃描遷移率粒徑譜儀 （SMPS?） 光譜儀系統(tǒng)結(jié)合了 TSI 在顆粒分類和計(jì)數(shù)方面的歷史優(yōu)勢(shì)，以及允許測(cè)量小至 1 nm 顆粒的新技術(shù)。優(yōu)化的差分遷移率分析儀 3086 進(jìn)一步減少了那些*小顆粒的擴(kuò)散損失。在 DMA 和標(biāo)準(zhǔn)冷凝粒子計(jì)數(shù)器 （CPC） 之間，Nano Enhancer 3757 使用二甘醇預(yù)生長(zhǎng) 1 nm 顆粒，以便 CPC 進(jìn)行檢測(cè)。新的 Nano Enhancer 設(shè)計(jì)加強(qiáng)了 CPC 和 Nano Enhancer 之間的集成，使設(shè)置和系統(tǒng)使用變得更加容易。
將這些組件結(jié)合起來(lái)，研究人員可以將粒子研究推向令人興奮的新領(lǐng)域。主要應(yīng)用包括：
大氣研究 - 監(jiān)測(cè)新顆粒的形成和動(dòng)力學(xué)、云凝結(jié)，并縮小質(zhì)譜儀和常規(guī)粒度分布測(cè)量之間的差距。非常適合研究高污染城市中 3 nm 以下的顆粒、顆粒源和健康影響研究。
材料科學(xué) - 通過(guò)可靠、近乎實(shí)時(shí)的反饋監(jiān)測(cè)和表征亞 3 nm 顆粒。該系統(tǒng)非常適合基于氣溶膠的工程納米顆粒合成、納米顆粒功能化、納米級(jí)分析化學(xué)、反應(yīng)動(dòng)力學(xué)控制和催化劑合成。
1nm SMPS? 光譜儀不僅僅是另一個(gè)從 1 nm 開(kāi)始觀察成核爆發(fā)的探測(cè)器;它是一個(gè)成熟的粒子光譜儀，可以顯示這些事件中存在的尺寸分布，具有****的分辨率。
組件的模塊化設(shè)計(jì)使其易于定制系統(tǒng)，以*適合您的測(cè)量需求：節(jié)省您的時(shí)間和**。如果您已經(jīng)擁有一臺(tái)配置了 3750 CPC 的 3938 系列 SMPS? 系統(tǒng)，則只需添加 1nm DMA 和 Nano Enhancer。您的分類器和**中和劑將保持不變，您將免費(fèi)獲得*新版本的氣溶膠儀器管理器®軟件。
應(yīng)用
基礎(chǔ)氣溶膠研究
研究來(lái)自粒子源的粒子成核和粒子生長(zhǎng)，例如火焰合成、激光燒蝕、火花產(chǎn)生和成核/冷凝
燃燒和發(fā)動(dòng)機(jī)尾氣研究（有機(jī)燃料、低于 3 nm 的排放、天然氣發(fā)動(dòng)機(jī)、塑料成型和焊接）
過(guò)濾研究
吸入或暴露室研究
健康影響研究
特性和優(yōu)勢(shì)
關(guān)于分子量和數(shù)量濃度的快速、高分辨率數(shù)據(jù)經(jīng)過(guò)優(yōu)化，擴(kuò)散損失*小
1 至 50 nm 之間的 217 個(gè)通道
能夠測(cè)量 3081A Long DMA 的三十倍級(jí)尺寸，從 1 nm 到 1 μm
模塊化組件設(shè)計(jì)，可進(jìn)行定制，以*好地滿足測(cè)量需求，例如獨(dú)立使用 1nm CPC
內(nèi)置診斷和系統(tǒng)組件自動(dòng)檢測(cè)功能，確?？煽亢涂煽康臏y(cè)量數(shù)據(jù)
易于設(shè)置和使用 Aerosol Instrument Manager® 軟件
隱蔽的顆粒測(cè)量：適用于多模式樣品
*特性和優(yōu)點(diǎn)假設(shè)SMPS?光譜儀包括：3082分級(jí)器，1nm-DMA，納米增強(qiáng)劑3575和冷凝粒子計(jì)數(shù)器3750。