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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱(chēng):TSI美國(guó) 不帶閥的液體流量控制器

  • 產(chǎn)品型號(hào):2950-05
  • 產(chǎn)品廠(chǎng)商:TSI
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
TSI美國(guó)進(jìn)口 不帶閥的液體流量控制器 2950-05 TSI美國(guó)進(jìn)口 不帶閥的液體流量控制器 2950-05
詳情介紹:

TSI美國(guó)進(jìn)口 不帶閥的液體流量控制器 2950-05
TSI美國(guó)進(jìn)口 不帶閥的液體流量控制器 2950-05

不帶閥的液體流量控制器 2950
型號(hào):2950-01MSP Turbo? 液體流量控制器 2950 基于現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的技術(shù),可與 MSP Turbo II? 氣化器配合使用,為半導(dǎo)體薄膜沉積工藝(包括 CVD、PECVD、ALD 和 MOCVD)提供可靠、高性能的液氣輸送解決方案。
產(chǎn)品詳情
Turbo? 液體流量控制器 2950 包含定制設(shè)計(jì)的高精度、高速流量傳感器和精心設(shè)計(jì)的流量控制電子設(shè)備,可提供先進(jìn)半導(dǎo)體加工所需的***性能。
精密流量控制
2950 LFC 集成了流量傳感器和液體控制電子元件,用于調(diào)節(jié) MSP 的 Turbo II? 蒸發(fā)器上的壓電閥。對(duì)于沒(méi)有板載壓電閥的蒸發(fā)器,請(qǐng)考慮使用 2950V 系列 Turbo? LFC 進(jìn)行有效的流量控制。
應(yīng)用
半導(dǎo)體薄膜沉積工藝化學(xué)氣相沉積 (CVD)
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD)
Atmoic layer deposituion (ALD) (大氣層沉積物 (ALD))
金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積 (MOCVD)
具有一致流速要求的應(yīng)用
特性和優(yōu)勢(shì)
固定流量
出色的精度和線(xiàn)性度
超快響應(yīng)時(shí)間
**的可重復(fù)性
寬流量范圍選項(xiàng)


提供 Turbo? LFC 型號(hào)

型號(hào) TEOS 滿(mǎn)量程* (g/min) TEMAZr 滿(mǎn)量程 (g/min) H2O 滿(mǎn)量程 (g/min)
2950-002 0.2 不適用 0.14
2950-01 1 0.19 0.73
2950-05 5 0.95 3.6
2950-10 10 1.9 7.3
2950-20 20 3.8 14
2950-30 30 5.7 21

?使用 TEOS 作為參比液在 23±2°C 下測(cè)定的標(biāo)稱(chēng)*大流量。 流量范圍是指定液體的函數(shù)。



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