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EBARA荏原 廢氣處理設(shè)備 TND-Single-A1

日期:2025-05-01 03:27
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EBARA荏原 廢氣處理設(shè)備 TND-Single-A1

EBARA荏原 廢氣處理設(shè)備 TND-Single-A1


TND型

具備低氮氧化物且豐富的反應(yīng)副產(chǎn)物處理措施,能夠降低維護(hù)成本的燃燒式廢氣處理裝置

產(chǎn)品介紹


TND型采用**燃燒方式,屬于低氮氧化物、低一氧化碳排放的燃燒式廢氣處理裝置。憑借各種耐腐蝕措施與副產(chǎn)物處理措施,維護(hù)間隔達(dá)到傳統(tǒng)產(chǎn)品的3倍以上,加上公用工程消耗低的低運(yùn)行成本方式,能夠有效降低使用成本。產(chǎn)品陣容包括:TND-Single型(燃燒式+濕式洗滌器)、TND-Single Plus(前置清洗+燃燒式+濕式洗滌器)。在副產(chǎn)物較多的工藝中,也能實(shí)現(xiàn)低運(yùn)行成本和高效處理。


規(guī)格

設(shè)備名稱 單位 TND-Single A1-A4/ TND-Single P1~P4 TND-Single Plus-A1~A4/P1~P4
處理方式 燃燒式 + 濕式 濕式 + 燃燒式 + 濕式
*大允許流入氣體量 L/min 200(每個(gè)端口) 200(每個(gè)端口)
400(每臺(tái)裝置) 400(每臺(tái)裝置)
燃料 選擇城市燃?xì)?丙烷氣體 選擇城市燃?xì)?丙烷氣體
尺寸 W x D x H mm 1,200 x 650 x 1,980 1,200 x 650 x 1,980
可處**體例 工藝(沉積)氣體
SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2、PH3、Si3H8等
所有潔凈氣體
NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等
所有蝕刻氣體
HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等
工藝(沉積)氣體
WF6、TiCl4、SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 など
所有潔凈氣體
NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等
所有蝕刻氣體
HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等
PFCs
CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等
標(biāo)準(zhǔn)裝備品 粉體去除用水清洗結(jié)構(gòu) 前道粉體捕集結(jié)構(gòu)
粉體去除用燃燒器刮板 粉體去除用燃燒器刮板
選項(xiàng) 自來(lái)水、污水使用量削減單元 自來(lái)水、污水使用量削減單元
粉體排放削減用風(fēng)機(jī)洗滌器 粉體排放削減用風(fēng)機(jī)洗滌器





 

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