- SUGIDEN杉山電機(jī)
- Kashiyama樫山工業(yè)
- 機(jī)器人質(zhì)量比較儀
- METTLER TOLEDO...
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- RYUKI東京流機(jī)
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- OSI王子
- TOHIN東濱
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- TEKHNE泰科尼
- ATSENSE安森
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- KITA喜多
- UBM日本博聞
- NIHONIKA日本醫(yī)療
- IRIE入江
- KELK凱爾
- NAPSON納普森
- THERMOCERA日本K....
- NipponFreezer弗...
- HORIKOSHI堀越
- ESPEC埃斯佩克
- TOMY湯米工業(yè)
- SEM坂本
- OPTCOM奧特康
- SND勝安達(dá)
- UNION聯(lián)合電機(jī)
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- LUCEO魯機(jī)歐應(yīng)力儀
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- COSMO科斯莫檢漏儀
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- HAYASHI林時(shí)計(jì)光纖光源
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- SOLAX/SERIC索納克...
- SANKO山高膜厚計(jì)
- ITOH伊藤粉碎機(jī)
- NEWKON新光針孔機(jī)
- ONOSOKKI小野編碼器
- ELMEX安科生物涂抹棒
- AxoScan美國(guó)
- MITSUI ELECTRI...
- FUJICOM富士
- HAYASHI林時(shí)計(jì)
- Navitar納維塔爾鏡頭
- KANETEC強(qiáng)力脫磁裝置
- NPM日本脈沖電機(jī)
- YUASA尤阿薩折彎?rùn)C(jī)
- UNILAM優(yōu)尼光紫外燈
- POLARION普拉瑞探照燈
- AND艾安得
- JIKCO吉高濃度計(jì)
- IIJIMA飯島酸素計(jì)
- SPAIR日信工具
- Axometrics美國(guó)
- ASAHI旭精工
- DSK電通熒光燈
- DNL**燈
- ORIHARA折原應(yīng)力儀
- NIKKATO日陶研磨球
- NDK日本電色霧度計(jì)
- DRY-CABI德瑞卡比防潮...
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RIGAKU理學(xué)X 射線(xiàn)膜厚和密度測(cè)量系統(tǒng) RIGAKU理學(xué)X 射線(xiàn)膜厚和密度測(cè)量系統(tǒng) XHEMIS EX-2000，非破壞性薄膜厚度和密度測(cè)量系統(tǒng)新的 XRR 光學(xué)元件和新開(kāi)發(fā)的信號(hào)處理實(shí)現(xiàn)了高吞吐量和高動(dòng)態(tài)范圍通過(guò)采用新開(kāi)發(fā)的帶有高速探測(cè)器的光學(xué)系統(tǒng) 此外，通過(guò)應(yīng)用特殊的信號(hào)處理，可以獲得清晰、高動(dòng)態(tài)范圍的頻譜，而且噪聲很小。 查看詳情
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RIGAKU理學(xué)在線(xiàn)雙頭微點(diǎn)XRF無(wú)損晶圓檢測(cè) RIGAKU理學(xué)在線(xiàn)雙頭微點(diǎn)XRF無(wú)損晶圓檢測(cè)ONYX3200，在線(xiàn)雙頭微點(diǎn) XRF無(wú)損晶圓檢測(cè)和計(jì)量雙 X 射線(xiàn)源（多毛細(xì)管/單色）*大300 mm 晶圓 查看詳情
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RIGAKU理學(xué)混合XRF和光學(xué)測(cè)量FAB工具 RIGAKU理學(xué)混合XRF和光學(xué)測(cè)量FAB工具ONYX 3000，能量色散 X 射線(xiàn)熒光光譜儀 （ED-XRF） 能夠以非破壞性、非接觸的方式同時(shí)分析 300 mm 和 200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分。 查看詳情
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RIGAKU理學(xué)分析痕量從Na到U 的熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)分析痕量從Na到U 的熒光光譜儀TXRF-V310,采用轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線(xiàn)發(fā)生器和新設(shè)計(jì)的入射 X 射線(xiàn)單色器。過(guò)渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測(cè)量方法8 原子/厘米2 達(dá)到水平。 在封閉 X 射線(xiàn)管測(cè)量時(shí)間的 1/3 內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)相同的精度，從而實(shí)現(xiàn)高通量。 查看詳情
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RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射 X 射線(xiàn)熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射 X 射線(xiàn)熒光光譜儀TXRF 310Fab,采用轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線(xiàn)發(fā)生器和新設(shè)計(jì)的入射 X 射線(xiàn)單色器。過(guò)渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測(cè)量方法8 原子/厘米2達(dá)到水平。 在封閉 X 射線(xiàn)管測(cè)量時(shí)間的 1/3 內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)相同的精度，從而實(shí)現(xiàn)高通量。 查看詳情
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RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射X 射線(xiàn)熒光光譜儀 RIGAKU理學(xué)全內(nèi)反射X 射線(xiàn)熒光光譜儀TXRF 3760,對(duì)晶圓表面的污染進(jìn)行無(wú)損、非接觸式和高靈敏度分析轉(zhuǎn)子式高功率 X 射線(xiàn)發(fā)生器和新設(shè)計(jì)的入射 X 射線(xiàn)單色器過(guò)渡金屬 LLD 10 采用直接 TXRF 測(cè)量方法8 原子/厘米2達(dá)到水平。 在封閉 X 射線(xiàn)管測(cè)量時(shí)間的 1/3 內(nèi)即可實(shí)現(xiàn)相同的精度，從而實(shí)現(xiàn)高通量 查看詳情
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RIGAKU日本理學(xué)X 射線(xiàn)光譜儀WaferX 310 RIGAKU日本理學(xué)X 射線(xiàn)光譜儀WaferX 310 WD-XRF ,這是一種波長(zhǎng)色散 X 射線(xiàn)熒光光譜儀 （WD-XRF），可以無(wú)損、非接觸地同時(shí)分析 300 mm 和 200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分 查看詳情
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RIGAKU日本理學(xué)晶圓磁盤(pán)分析儀 RIGAKU日本理學(xué)晶圓磁盤(pán)分析儀3650,這是一種波長(zhǎng)色散 X 射線(xiàn)熒光光譜儀 （WD-XRF），可以以非破壞性、非接觸的方式同時(shí)分析*大 ~200 mm 晶圓上各種薄膜的厚度和成分 查看詳情
