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ADVANCE RIKO 原裝紅外燈退火設備 10秒達到目標溫度！ 我們相信我們的紅外燈加熱具有高能量密度、近紅外線、高熱響應、溫度可控、真空清潔加熱等特點。可容納 2 英寸（50 毫米）至 12 英寸（300 毫米）晶圓的產品陣容。 我們通過 RTA 系列提供所需的熱處理配方（加熱/冷卻）和氣氛（真空或氣體）來滿足客戶需求。 查看詳情
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ADVANCE RIKO日本現(xiàn)貨程序溫度控制器 能夠**應對高速加熱的溫度控制器。 這種可編程溫度控制器不僅可以用于高速加熱時需要快速響應的紅外金像爐，也可以用于慢速加熱的爐。 我們以緊湊的封裝提供高功能和高性能，并以低廉的價格提供各種配件。 查看詳情
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ADVANCE RIKO先進理工 現(xiàn)貨紅外金像爐原裝 它可用于廣泛的領域，包括碳納米管生成設備和生產設備。 平板輻射式紅外加熱爐可用于φ2in至φ300mm晶圓的退火系統(tǒng)和生產燒成爐。 查看詳情
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