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簡單介紹：
它可用于廣泛的領域，包括碳納米管生成設備和生產設備。
平板輻射式紅外加熱爐可用于φ2in至φ300mm晶圓的退火系統(tǒng)和生產燒成爐。
詳情介紹：
- 大型玻璃基板（太陽能電池、FPD等）的加熱
- 半導體晶圓的高溫高速加熱
- 薄鋼板的熱處理
- Ps型的反射面寬度為40mm，Pss型的反射面寬度為20mm，可實現(xiàn)高密度的燈排列。
- Ps型和Pss型都可以通過增加反射面的數(shù)量來實現(xiàn)大面積加熱。
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