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產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：ADVANCE RIKO 日本進口臺燈加熱裝置

  • 產(chǎn)品型號：MILA-5000-PN
  • 產(chǎn)品廠商：ADVANCE RIKO先進理工
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
MILA-5000系列具有紅外金像爐的特點，即高速加熱、冷卻、清潔加熱，是一款小型、低成本的產(chǎn)品，可在任何氣氛下加熱，集成了溫度控制器和這是一種紅外燈加熱裝置， 可以通過USB連接在計算機上進行加熱操作，并且可以輕松管理數(shù)據(jù)。
詳情介紹：
  • 鐵電薄膜的晶體退火
  • 離子注入后擴散退火、氧化膜形成退火
  • 硅及化合物晶片的燒結(jié)及合金化處理
  • 玻璃基板均熱退火
  • 熱循環(huán)、熱沖擊、熱疲勞測試
  • 用于程序升溫剝離試驗的加熱爐
  • 催化效果測試
  • 選擇任何氣氛：真空、氣體、氣流或空氣
  • **的溫度控制
  • 桌面式和緊湊型設(shè)計
  • 您可以輕松設(shè)置溫度程序并從計算機輸入外部信號。
  • 加熱過程中的溫度數(shù)據(jù)可在電腦上顯示
模型 MILA-5000-PF
（均勻加熱型） 		MILA-5000-PN
（高溫型） 		MILA-5000UHV
（高溫/高真空型）
溫度范圍 室溫～800℃ 室溫～1200℃ 室溫～1000℃
樣本量 正方形 20mm x 厚度 2mm
加熱氣氛 在空氣、低真空、惰性氣體中 在空氣、高真空、惰性氣體中
過程壓力 10Pa至大氣壓（使用RP *1，室溫，無負載） 10 -4 Pa～大氣壓（使用TMP *1、室溫、無負載）

*1 真空排氣裝置是可選的。
*2 加熱溫度根據(jù)加熱物體的紅外線反射/吸收、熱容量和材料而變化。

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