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產(chǎn)品詳情

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產(chǎn)品名稱：EBARA荏原廢氣處理設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào)：G5-1200-A3
產(chǎn)品廠商：EBARA荏原
產(chǎn)品文檔：

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簡(jiǎn)單介紹：

EBARA荏原廢氣處理設(shè)備 G5-1200-A3，北崎有售，歡迎咨詢。

詳情介紹：

EBARA荏原廢氣處理設(shè)備 G5-1200-A3

產(chǎn)品介紹

G5型是制造工藝所用可高效處理各種氣體的燃燒式廢氣處理裝置?？膳刻幚矶喾N氣體，能夠高效進(jìn)行通常處理起來較為困難的PFCs氣體的處理。通過**的副產(chǎn)物處理措施以及結(jié)合處理對(duì)象氣體種類和數(shù)量實(shí)施的可調(diào)式（燃料供應(yīng)量可調(diào)）運(yùn)行，能夠降低運(yùn)行成本。該裝置是半導(dǎo)體、液晶面板、太陽(yáng)能電池和LED等電子元件制造以及化學(xué)材料工廠和各種研究室等用途的*佳選擇。產(chǎn)品陣容還包括*大流量為1,200L/min的大流量機(jī)型。

G5型

高效處理可燃性氣體和氟化溫室氣體（PFCs氣體）的燃燒式廢氣處理裝置

燃燒式廢氣處理裝置

批量處理多種氣體

高效處理PFCs氣體

副產(chǎn)物處理措施和粉塵自動(dòng)排放功能

運(yùn)行成本低

運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)

與氣體種類和數(shù)量相適應(yīng)的可調(diào)式運(yùn)行

提高維護(hù)性能

可滿足CE標(biāo)示/SEMI-S2/NRTL要求

規(guī)格

設(shè)備名稱	單位	G5-350 A1~A4/P1~P4	G5-500 A1~A4/P1~P4	G5-600 A1~A4/P1~P4	G5-1200 A1~A4/P1~P4
處理方式		燃燒式 + 濕式	燃燒式 + 濕式	燃燒式 + 濕式	燃燒式 + 濕式
*大允許流入氣體量	L/min	350	500	600	1200
燃料		選擇城市燃?xì)?丙烷氣體	選擇城市燃?xì)?丙烷氣體	選擇城市燃?xì)?丙烷氣體	選擇城市燃?xì)?丙烷氣體
尺寸	W x D x H mm	1,200 x 650 x 1,900	1,200 x 650 x 1,900	1,200 x 1,100 x 2,000	1,200 x 1,100 x 2,200
可處**體例		工藝（沉積）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等所有潔凈氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等	工藝（沉積）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等所有潔凈氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等	工藝（沉積）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等所有潔凈氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等	工藝（沉積）氣體 SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2等所有潔凈氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2等所有蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6等 PFCs CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6等
標(biāo)準(zhǔn)裝備品		粉體去除用燃燒器刮板	粉體去除用燃燒器刮板	粉體去除用燃燒器刮板	粉體去除用燃燒器刮板
選項(xiàng)		自來水、污水使用量削減單元	自來水、污水使用量削減單元	自來水、污水使用量削減單元	自來水、污水使用量削減單元